ABM紫外单面光刻机
设备名称：ABM紫外单面光刻机
设备型号：ABM／6／350／NUV／DCCD／M
设备厂商：美国ABM公司
用途：光刻胶的图形化
工作原理：将设计的掩模图形通过光刻机曝光转移到涂有光刻胶的晶片上
技术性能指标
1．紫外光波长：365nm，曝光能量密度18－20mW／cm2可调
2．样品尺寸：6英寸及以下
3．分辨率：接触式曝光＜0.5μm，接近式曝光≤1μm
4．对准精度：＜1μm
光刻工艺
咨询热线：曾工 15018420573（微信同号）
邮箱：zengzhaohui@gdisit.com
