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CLASS 100 / 1000 / 10000 ULTRA CLEAN LABORATORY

百级/千级/万级超净实验室

5000平米研发基地

完整的半导体工艺链

光刻工艺
  • ABM紫外单面光刻机

    设备型号:ABM/6/350/NUV/DCCD/M 设备厂商:ABM 查看详情
  • SUSS双面光刻机

    设备型号:SUSS MA/BA8 GEN4 设备厂商:SUSS 查看详情