返回首页
CLASS 100 / 1000 / 10000 ULTRA CLEAN LABORATORY
百级/千级/万级超净实验室
5000
平米研发基地
完整的
半导体工艺链
工艺能力
光刻工艺
刻蚀工艺
镀膜工艺
键合工艺
退火工艺
测试设备
服务案例
光刻案例
刻蚀案例
镀膜案例
关于我们
关于我们
光刻工艺
ABM紫外单面光刻机
设备型号:ABM/6/350/NUV/DCCD/M
设备厂商:ABM
查看详情
SUSS双面光刻机
设备型号:SUSS MA/BA8 GEN4
设备厂商:SUSS
查看详情