等离子体增强化学气相沉积（PECVD）
设备名称：等离子体增强化学气相沉积（PECVD）
设备型号：PlasmaPro 800Plus PECVD
设备厂商：英国牛津仪器
工作原理：等离子体经受激、分解、离解和离化后，这些具有高反应活性的中性物质被吸附到较低温度的衬底表面上，发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜。
用途：沉积SiO2、SiNX薄膜、不含H的SiNX薄膜、SiNOx薄膜
技术性能指标
1．RF射频源：高频13.56MHz 功率0－300W；低频50－460KHz 功率0－500W
2．反应气体：CF4／O2、N2、N2O、SiH4／N2、NH3
3．样品尺寸：43＊2英寸、10＊4英寸、4＊6英寸
4．下电极温度：室温－400℃可调
5．镀膜均匀性：＜±3％
