ITO电子束蒸发台
设备名称：ITO电子束蒸发台
设备型号：Peva－600I
设备厂商：台湾聚昌
工作原理：电子束斑聚焦到介质材料表面，使局部达到蒸发或升华温度，蒸发出来的原子沉积在基片表面，同时增加离子源辅助沉积，实现高密度、高折射率的光学薄膜。
用途：蒸发透明导电薄膜ITO
技术性能指标
1．样品尺寸：102＊2英寸、21＊4英寸、12＊6英寸
2．基底刻蚀温度： 室温－350℃可调，控温精度1℃
3．极限真空：2×10－7 torr
4．蒸发均匀性：＜±5％
