磁控溅射镀膜
设备名称：磁控溅射台
设备型号：Kurt PVD75Pro－Line
工作原理：高能粒子撞击具有高纯度的靶材固定平板，通过物理过程轰击出原子，这些被撞击出的原子穿过真空，最后淀积在样品表面。
用途：溅射Ti、Al、Ni、Cr、Pt、Cu等金属薄膜，溅射AlN、ITO、SiN、ZnO、IGZO等化合物材料
技术性能指标
1．样品尺寸：5＊2英寸、1＊4英寸、1＊6英寸
2．基板加热温度： 室温－350℃可调，控温精度1℃
3．配备四台溅射靶枪，其中一个靶枪支持强磁性材料
4．300W射频电源，2kW 直流脉冲电源，带有等离子清洗功能
5．蒸发均匀性：2英寸范围内＜±3％ ；6英寸范围内±5％
