●　加速电压：　200　V　－　30　kV；

●　束流：　最大2μA，并连续可调；

●　放大倍数：　6　x　–　1，000，000　x　，四幅图像显示；

●　分辨率：30　kV下3.0　nm　（背散射探头），30　kV下4.0　nm（二次电子探头），3　kV下8.0　nm　（二次电子探头）；

●　检测器包含：高灵敏度、低电压固体背散射探头，二次电子探头，以及样品室红外CCD相机；

●　真空系统：样品室真空度　（高真空模式）　＜　6e－4　Pa，样品室真空度（低真空模式）　＜　10　to　130　Pa，样品室真空度（环境真空模式）　＜　10　to　2600　Pa；

●　样品室：左右内径379mm，10　mm分析工作距离，10个探测器／附件接口，EDS采集角35°；

●　样品台：X／Y　＝　150　mm，Z　＝　65　mm，Z向间隙93.5mm，倾斜－　5°～　＋　70°，连续旋转360°，复精度：　2　μm　（X／Y方向）；　

●　搭载系统：

1．能谱仪

BRUKER　　10　mm²　XFlash®　SDD双硅漂移探测器，

●　分辨率　129eV　

●　超快速脉冲处理

●　电制冷　（无需液氮）

2．波谱仪

●　OXFORD波谱仪　INCA分析系统；

●　低于500ppm下准确定量分析；

●　分辨率小于10eV，有效区分EDS中重叠峰，如S／Mo等；

●　即使出现重叠峰，WDS也可以快速准确的辨别样品中所有元素

●　分析痕量元素比EDS灵敏100倍

●　痕量元素WD分析，从而达到EPMA的准确度。

3．MLA自动工艺矿物学参数检测系统

MLA（Mineral　liberation　analysor）能自动测定矿石的矿物组成和含量，重要矿物分布特征及其粒度组成，有益、有害元素赋存状态等几乎所有工艺矿物学参数。它是由一台扫描电镜和一到两台能谱仪构成，加上MLA系统软件。其原理是利用扫描电镜的背散射电子图像区分不同的矿物相，并灵活利用能谱对不同矿物相进行X射线分析，从而快速准确获取工艺矿物学参数。

1．制样要求

（1）粉体样品：常规粉末直接粘到导电胶上测试，如需分散后测试请提前说明；

（2）液体样品：测试老师根据样品要求及实验室条件，随机选择滴到硅片或铝箔上，如有指定要求请提前说明；

（3）薄膜或块体：请标明测试面，如需测试截面，请自行自备截面或提前说明截面制备方式。

2．样品要求

（1）样品形态要求：粉末、液体、薄膜、块体均可测试；

（2）粉末样品要求：样品量需要提供大概10mg；

（3）液体样品要求：样品量≥300ul，溶剂和溶液不能发生反应，溶液务必能干燥，不易干燥的溶液需要说明干燥条件，请根据样品成分选择对应的基底；

（4）块体／薄膜样品要求：长宽≤1cm，厚度≤1cm，样品质量不超过200g；

（5）混凝土，珊瑚沙，气凝胶等需要抽真空时间非常长的样品要求：尺寸请尽可能直径≤5mm，厚度≤5mm；

（6）需要脆断的样品要求：尺寸需要＞2＊2cm，厚度＜0.5cm，较厚的样品建议尺寸准备大些。

3．其它要求

（1）样品含水，湿润是不能做SEM的；

（2）易分解样品需明确分解条件（如温度等），若样品极易分解可能不能安排测试，因为分解后产生物质可能对测试仪器造成影响；

（3）水凝胶等易吸潮样品寄样前请先确认样品暴露4－5h内是否会出现明显的吸潮现象，测试过程中样品吸潮会影响拍摄的同时也会对仪器造成损伤；

（4）导电性不好（如半导体金属氧化物、生物样品及塑料、陶瓷等）或强磁样品建议选择喷金，不喷金可能会影响拍摄效果；

（5）要求样品无毒、无放射性、干燥无污染、热稳定性好、耐电子束轰击。