CP截面抛光仪
设备型号：I9520 CP
用途：对样品表面进行抛光，去除损伤层，从而得到高质量样品，用于在SEM，光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC 或其它分析
送样须知
1．样品状态：粉末，块状，薄膜；
2．粉末样品要求：500mg以上，体积1ml以上；
3．截面制备样品要求：长宽厚小于20＊20＊10mm，如样品可剪裁可大一些；
4．平面抛光样品要求：以待抛光区域为中心点，样品直径不超过25mm、厚度0～20mm，（超出部分需要磨平）；
5．样品本身要求：无毒，无放射性，无污染，成分稳定不易挥发，易氧化吸水的需要真空保存，需要特殊位置切割的请附件说明，基于电镜分辨率限制，样品颗粒需要＞100nm才能观察；
6．送样前需要对样品进行预处理：样品预磨抛，样品要磨平，样品的上下表面要平行，样品抛光面至少用4000目砂纸磨平，在显微镜下看起来光滑，不粗糙。
