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CLASS 100 / 1000 / 10000 ULTRA CLEAN LABORATORY

百级/千级/万级超净实验室

5000平米研发基地

完整的半导体工艺链

刻蚀工艺

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等离子去胶机

设备名称:等离子去胶机

设备型号:PT-5S

设备厂商:深圳三和波达机电科技有限公司

工作原理:真空状态下,等离子作用在控制和定性方法下能够电离气体,利用真空泵将工作室进行抽真空达到30-40pa 的真空度,再在高频发生器作用下,将气体进行电离,形成等离子体。

用途:表面亲水性、拒水性高度清洁等各种表面改性。半导体工艺中主要用于光刻胶底膜去除。

技术性能指标

1.等离子射频频率为40KHZ,射频功率为200W,功率连续可调

2.N2、O2双路气体输入,气体流量109-100mL/min可调

3.清洗时间1-6000秒可调

4.真空度:30Pa-100Pa

5.内腔尺寸:直径150mm×270mm