ICP刻蚀机
设备名称：感应耦合等离子刻蚀机（ICP）
设备型号：PlasmaPro System 133 ICP380
设备厂商：英国牛津仪器
工作原理：采用高频辉光放电反应，将反应气体解离为活性粒子，如原子或自由基，通过电磁场加速，这些活性粒子扩散到需要刻蚀的部位，与刻蚀材料进行反应，生成易挥发的物质被去除。
用途：刻蚀GaN、Si、AlGaInP、AlGaN、SiO2、Si3N4等材料
技术性能指标
1．ICP离子源：0－3000W；RF射频源：0－600W
2．刻蚀气体：Cl2、BCl3、Ar、SF6、O2、CHF3
3．样品尺寸：27＊2英寸、6＊4英寸、1＊6英寸
4．基底刻蚀温度： －20℃－80℃可调
5．刻蚀均匀性：＜±3％
