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CLASS 100 / 1000 / 10000 ULTRA CLEAN LABORATORY

百级/千级/万级超净实验室

5000平米研发基地

完整的半导体工艺链

键合工艺

咨询热线:曾工 15018420573(微信同号)

邮箱:zengzhaohui@gdisit.com

晶圆键合机

设备名称:晶圆键合机

设备型号:SB8 Gen 2

设备厂商:德国SUSS 

用途:可满足阳极键合、金属扩散键合、共晶键合、临时键合、共熔键合等工艺

技术性能指标

1.兼容晶圆尺寸:8英寸、6英寸、4英寸、3英寸以及最小10*10mm晶圆对准及键合

2.最大厚度:圆片堆叠最大厚度≤6mm

3.腔室真空范围:5e-5mbar~3000mbar

4.加热温度范围:室温至500℃

5.温度均匀性:≤±1.5%,温控精度:≤±3℃

6.上、下基板升降温速率:1℃/min~30℃/min

7.下基板采用主动式降温,降温速率:1℃/min~25℃/min

8.压力范围:200N-20KN,范围内连续可调

9.压力控制精度:≤±2%,压力均匀性:≤±7.5%