设备名称：ITO电子束蒸发台

设备厂商：台湾聚昌

工作原理：电子束斑聚焦到介质材料表面，使局部达到蒸发或升华温度，蒸发出来的原子沉积在基片表面，同时增加离子源辅助沉积，实现高密度、高折射率的光学薄膜。

用途：蒸发透明导电薄膜ITO

技术指标：

1.样品尺寸：102*2英寸、21*4英寸、12*6英寸

2.基底刻蚀温度： 室温-350℃可调，控温精度1℃

3.极限真空：2×10-7 torr

4.  蒸发均匀性：<±5%

工艺特点：

1. 可沉积致密、高透过率透明导电薄膜，也可通过控制沉积条件，形成不同形貌的ITO纳米结构；

2. 全自动膜厚仪监控薄膜的生长厚度，精确控制薄膜的蒸镀厚度。