设备型号：UVISEL
设备厂商：日本HORIBA
设备介绍：
基本原理：偏振光在介质的表面反射时，其偏振状态将发生变化，通过测量这些变化并建模分析，可以获得介质材料的光学常数和结构参数信息。
主要特点：
● 高精度，可用于检测超薄薄膜（nm）
● 无损检测，无需制样
● 无盲区（Ψ=0-90°, Δ=0-360°）
● 光谱范围 ：210-880nm
● 适用于透明、半透明的碎片或2、4、6英寸薄膜
应用领域：
可应用于：光电子、冶金、纳米材料、高分子薄膜、生物化学等领域。
● 光学常数测量，包括折射率n、消光系数k、复数介电函数ε、透过率T、反射率R等
● 多层膜、多孔材料、高分子薄膜等特殊结构分析
● 各类薄膜、界面层的膜厚、表面粗糙度测量
● 薄膜禁带宽度、激子束缚能测量
● 材料各向异性分析
ITO-on-BK7（玻璃）椭偏光谱
ITO-on-BK7（玻璃）椭偏光谱建模分析
