设备名称：光致发光扫描系统（PL mapping） 
设备型号：M-200 
设备厂商：韩国ECOPIA

设备介绍：

    基本原理：通过对样品不同位置区域荧光光谱的采集和分析，获得材料发光的区域分布图，从而对材料发光均匀性和膜厚均匀性进行有效分析。 
    光致发光（PL）是一种辐射复合效应。在一定波长光源的激发下，电子吸收激发光子的能量，向高能级跃迁而处于激发态，激发态是不稳定的状态，会以辐射复合的形式发射光子向低能级跃迁，产生荧光。

主要特点：

    ● 适用于2、4、6英寸样品； 
    ● 可进行PL测试、膜厚及反射率的测试 
    ● 激发光源：405nm激光器，最大输出功率100mW，功率连续可调 
    ● PL荧光光谱探测范围：350-800nm   光谱分辨率：光谱分辨率≤0.3nm 
    ● 膜厚测试范围：1-19μm 

    ●  膜厚分辨率：5% 

应用领域：

    主要应用于LED晶圆发光均匀性检测、膜厚均匀性检测、以及托盘设计。 
    ● LED晶圆发光均匀性检测 
    ● 膜厚均匀性检测 
    ● 托盘设计 
    ● 晶圆PL荧光光谱对比

GaN Mapping图

GaN单点PL谱

托盘设计