设备名称：小型电子束蒸发台（Metal E-beam Evaporator）
设备型号：DE400
技术指标
基板尺寸：2、4、6英寸晶圆，2英寸晶圆可以同时放置5片，6英寸1片；
基板加热：最高温度500°C，控温精度1°C；
等离子清洗：气体Ar，最大功率100W；
系统极限真空：2*10-8 torr；
蒸发源：8*7cc坩埚；
可蒸发金属：Ti、Al、Ni、Au、Pt、Ag、Ni等
膜厚均匀性：≤±3%；
应用领域：电子束蒸发台主要应用于金属薄膜制备，如半导体器件金属电极，金属互连线，金属反射镜等。
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