设备名称：金属电子束蒸发台（Metal E-beam Evaporator）
设备型号：PEVA-600E
技术指标：
基板尺寸：2、4、6英寸，2英寸可放67片；
基板加热：最高温度250℃，控温精度1℃；
系统极限真空度： 2×10-7 torr；
蒸发源数量：6个坩埚；
可蒸发金属：Ti、Al、Ni、Au、Pt、Ag、Ni等
膜厚均匀性：≤±5%；
应用领域：电子束蒸发台常见于镀膜工艺流程，其原理是利用加速后的电子能量打击材料标靶，使材料标靶蒸发升腾，最终沉积到目标基底上。主要用于Ti、Al、Ni、Au、Pt、Ag、Ni等金属的镀膜，一炉可以依次蒸镀6种不同金属，可以蒸镀高熔点金属Pt、W等。
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