首页>对外服务>仪器设备

快速退火炉

发布时间:2018年10月16日来源:广东省科学院半导体研究所

设备名称:快速退火炉

设备厂商:台湾技鼎



工作原理:快速退火炉是一种材料快速加热到一定温度并维持一定时间,然后再快速降温。

用途:释放应力;增加材料延展性和韧性;产生特殊显微结构;应用于半导体材料、器件、新材料等的快速热处理(如快速退火、合金等工艺)


技术指标:

1. 样品尺寸:6英寸及以下

2退火温度: 100-1250℃可调,控温精度1℃

3. 温度均匀性:1000℃下,6英寸晶圆≤±1%

4.反应气氛;真空、N2、O2、空气