1、ABM紫外单面光刻机
一、信息详情：
设备名称：ABM紫外单面光刻机
设备型号：ABM/6/350/NUV/DCCD/M
设备厂商：美国ABM公司
用途：光刻胶的图形化
工作原理：将设计的掩模图形通过光刻机曝光转移到涂有光刻胶的晶片上
二、技术性能指标：
1.紫外光波长：365nm，曝光能量密度18-20mW/cm2可调
2. 样品尺寸：6英寸及以下
3. 分辨率：接触式曝光＜0.5μm，接近式曝光≤1μm
4.对准精度:＜1μm
三、联系方式：
曾工15018420573（微信同号）邮箱：zengzhaohui@gdisit.com
2、SUSS双面光刻机
一、信息详情：
设备名称：SUSS双面光刻机
设备型号：SUSS MA/BA8 GEN4
设备厂商：德国SUSS 公司
二、技术性能指标：
1.衬底尺寸：最大8英寸，兼容6，4，2英寸，最小10*10mm
2.光强大小：35mw/cm2@365nm 光强均匀性：优于±2.5%@8”
3.曝光模式：真空接触、硬接触、软接触、接近式曝光
4.正面显微镜分离距离调节范围29-203mm
5.背面显微镜分离距离调节范围15-203mm
6.正面光刻分辨率：0.8μm，背面光刻分别率1.1μm
7.最大晶圆厚度：6mm
8.可用于键合机晶圆对准
三、联系方式：
曾工15018420573（微信同号）邮箱：zengzhaohui@gdisit.com
